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光化學氧化技(jì)術處理印染廢水
時間:2017-05-12瀏覽量:920
  光化學氧化技術屬於高級(jí)氧化工藝(yì),是(shì)新興的現代(dài)水處理技術,該(gāi)技術通過(guò)氧化劑(O3、H2O2等)在紫(zǐ)外(或可(kě)見)光的激發和催(cuī)化劑(Fe2+、Fe3+ 、半導體等)的催化作用下,產(chǎn)生具有(yǒu)強氧化性(xìng)的羥基(jī)自由基,羥基自由基的標準氧化(huà)電位達2.8eV,是除元素氟以外最(zuì)強的氧化劑,能無選擇地將絕大多數有機物(wù)徹底氧化成CO2、H2O和(hé)其它無機物,反應速度快,耗時短,反應條件溫和(常溫、常壓),操作(zuò)條件易於控製,無二次汙染。印染廢水中染料(liào)的顏色來源於染料分子的共扼體係—含不飽和基團-N=N-、-N=O等的發(fā)色體,光化學氧化產生(shēng)的羥基自由(yóu)基能夠有效打破共扼體係結(jié)構,使之變成無色(sè)的(de)有機分子,並進一(yī)步礦化為H2O、CO2和其他無機物質。光化學氧化工藝上的特點和染料的分子結構特征決定了光化學氧化技術在(zài)印染廢水處理方(fāng)麵具有其他工(gōng)藝所無(wú)可比擬的優(yōu)勢。
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